電子光學用的EDI超純水設備采用的是電滲析技術和離子交換技術融為一體的連續(xù)電除鹽技術，其工作的原理是通過陽、陰離子膜對陽、陰離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用，實現(xiàn)水中離子的定向遷移，最后達到水的深度凈化除鹽。對于電子光學行業(yè)也就是生活中常見的半導體設備加工時用到的集成電路芯片、電子試劑用水、電子管涂敷配液用水、封裝用水、液晶顯示器屏面清洗用水、光學鏡片清洗用水、微電子工業(yè)、微電子工業(yè)以及各種電子器件的生產(chǎn)用水對于水質的要求高，下面來了解一下關于：電子光學用的EDI超純水設備。

　　離子交換樹脂通過水電解是可以實現(xiàn)連續(xù)再生，在水電解的過程中產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進行連續(xù)再生，而且在設備制水的整個過程中都是不需要加入任何的堿、酸化學藥品再生。

　　電子光學用的EDI超純水設備的出水水質需達到：

　　1、企業(yè)的對于設備的出水水質要求;

　　2、電力裝置的繼電保護和自動裝置設計規(guī)范(GB50062-1992);

　　3、工業(yè)與民用電力裝置的接地設計規(guī)范(GBJ65-1983);

　　4、GB/T11446.1-1997國家電子級超純水標準Ⅰ級≥18MΩ/CM (25℃)95%以上時間;

　　根據(jù)企業(yè)對不同的行業(yè)其用水的電阻率要求是不一樣的，慧聰源環(huán)保采用的是雙級反滲透純化水處理技術+EDI模塊化設計，可制取出18.2兆的超純水，其系統(tǒng)的自動化程度高、操作簡便、系統(tǒng)工藝先進且出水水質穩(wěn)定，當然該純水設備還可以制取出15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm的水質。